如何產(chǎn)出高質(zhì)量的半導(dǎo)體超純水？

　　超純水的產(chǎn)生是應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細(xì)技術(shù)所生產(chǎn)出來一種水。這種水不僅可以應(yīng)用在電子行業(yè)，在半導(dǎo)體行業(yè)中也是應(yīng)用較多。

　　在半導(dǎo)體加工過程中，需要大量的超純水，傳統(tǒng)的超純水制備方法主要有蒸餾法和離子交換法。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展，對清洗水的電導(dǎo)性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴(yán)格，傳統(tǒng)的制備方法如今逐漸不在適用該產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)需求了。

　　由于半導(dǎo)體用超純水對多項(xiàng)指標(biāo)的高要求，所以在半導(dǎo)體行業(yè)，超純水不同于其他行業(yè)對水的要求，半導(dǎo)體行業(yè)對超純水有極為嚴(yán)格的水質(zhì)要求。

　　半導(dǎo)體行業(yè)超純水質(zhì)量會(huì)有哪些要求?

　　半導(dǎo)體所用的超純水需要達(dá)到的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)為：我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))，我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)，國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)等。

　　如何產(chǎn)出高質(zhì)量的半導(dǎo)體超純水?

　　建議采用“兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝”這類的超純水設(shè)備，可保證處理后的水電阻和電電阻達(dá)到18MΩ.CM以上。該出了采用以上工藝外，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)也需要相對緊湊，這樣一來占地面積小可為企業(yè)節(jié)省大量建設(shè)空間。這種半導(dǎo)體超純水設(shè)備出廠前都是需進(jìn)行壓力測驗(yàn)的，所以出現(xiàn)故障概率小。還可以還配備了反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上確保了水處理設(shè)備的出水質(zhì)量。

　　以上，就是關(guān)于半導(dǎo)體行業(yè)所需超純水相關(guān)問題的全部介紹了。感謝您的閱讀，我們下期不見不散!