半導(dǎo)體生產(chǎn)中應(yīng)用的超純水設(shè)備都由哪些工藝組成？

　　半導(dǎo)體是作為一種電子性質(zhì)介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料，具有重要的電子學(xué)和光電學(xué)性質(zhì)，廣泛用于電子、光電和信息技術(shù)領(lǐng)域。其在制造過(guò)程中需要清洗的超純水，幾乎每道工序都需要超純水作為清洗用水，為了更好地為半導(dǎo)體生產(chǎn)清洗用水供給，超純水設(shè)備也在增加生產(chǎn)力度。

　　目前，半導(dǎo)體生產(chǎn)中應(yīng)用的超純水設(shè)備摒棄了傳統(tǒng)工藝，核心是采用的膜法技術(shù)，應(yīng)用反滲透工藝與EDI和混床工藝來(lái)生產(chǎn)超純水，不僅產(chǎn)水量增加，出水電導(dǎo)率可達(dá)18.2mΩ， 滿(mǎn)足了芯片行業(yè)用水需求。

　　該超純水設(shè)備采用的核心工藝組成介紹如下：

　　1、反滲透工藝：利用反向滲透原理，有效除去水中溶解鹽類(lèi)、有機(jī)物、膠體、大分子物質(zhì)等，降低水質(zhì)的離子含量。

　　2、EDI模塊：無(wú)需酸堿再生，運(yùn)行成本低，EDI系統(tǒng)的自動(dòng)化程度很高，可以連續(xù)工作，出水水質(zhì)好且穩(wěn)定，出水電阻率≥15MΩ·CM。

　　3、拋光混床工藝：專(zhuān)門(mén)用于高純度的水處理系統(tǒng)中的終端精制器，能夠?qū)⑺械碾x子含量降到PPB級(jí)別，出水電阻率可達(dá)18.2MΩ·CM。

　　以上，介紹的工藝就是目前半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用的超純水設(shè)備核心工藝組成。該超純水設(shè)備在保證出水達(dá)標(biāo)的同時(shí)，還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性、擴(kuò)建前瞻預(yù)判等細(xì)節(jié)，為半導(dǎo)體生產(chǎn)提供了高品質(zhì)的超純水。

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