單晶硅清洗應(yīng)用超純水設(shè)備的優(yōu)勢(shì)

　　單晶硅是指具有基本完整點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的硅單晶體。不同的方向有不同的性質(zhì)，是一種很好的半導(dǎo)體材料。用于制造半導(dǎo)體設(shè)備、太陽能電池等。無論應(yīng)用哪些行業(yè)，都必須進(jìn)行加工清洗，超純水設(shè)備是一種出水電阻率很高、無雜質(zhì)、無導(dǎo)電的設(shè)備，滿足單晶硅的清洗要求。

　　萊特萊德單晶硅清洗超純水設(shè)備采用雙級(jí)反滲透、EDI、拋光混合床相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高、運(yùn)行可靠、經(jīng)濟(jì)合理等特點(diǎn)。但單晶硅清洗超純水設(shè)備長期工作后，如果不定期維護(hù)，容易污染，因此單晶硅清洗超純水設(shè)備應(yīng)定期保養(yǎng)，確保設(shè)備出水水質(zhì)符合要求。

　　該設(shè)備通常由預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成整體設(shè)備，那么設(shè)備都具有哪些性能優(yōu)勢(shì)值得被選擇呢?

　　1、無需酸堿再生

　　在混床中樹脂需要用化學(xué)藥品酸堿再生，而EDI則消除了床酸堿再生時(shí)產(chǎn)生的廢酸廢堿的處理和繁重的工作，同時(shí)還保護(hù)了環(huán)境。

　　2、出水連續(xù)穩(wěn)定、簡(jiǎn)單操作

　　在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，操作過程變得極其復(fù)雜，而EDI模塊的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定連續(xù)的，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒有復(fù)雜的操作程序，簡(jiǎn)化了操作流程。

　　3、模塊化設(shè)計(jì)

　　超純水處理設(shè)備采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場(chǎng)地的高度和靈活地構(gòu)造，模塊化設(shè)計(jì)，使EDI在生產(chǎn)工作時(shí)能方便維護(hù)。

　　4、無需藥劑和任何再生化學(xué)品

　　不需中和藥劑，因?yàn)镋DI膜塊不會(huì)有酸堿廢液產(chǎn)生。也無需使用任何再生化學(xué)品進(jìn)行再生，這樣也就減少了化學(xué)品運(yùn)輸問題，同時(shí)降低了系統(tǒng)運(yùn)行費(fèi)用。

　　萊特萊德超純水設(shè)備可連續(xù)穩(wěn)定地制備優(yōu)質(zhì)超純水，水質(zhì)穩(wěn)定，可更好地幫助集成電路企業(yè)的發(fā)展，形成更強(qiáng)的企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。