超純水設備結合膜分離技術，應用于芯片生產中

　　隨著電子工業(yè)的發(fā)展,在芯片的生產加工過程中,對于水質的要求也越來越高。為了保證生產出超大規(guī)模的集成電路,除高純原材料、高純氣體、高純化學藥品外,高純水也是其中關鍵的因素之一。

　　高純水系統(tǒng)是將一般的市政用水處理成對不同離子的含量和顆粒度都有很高要求的超純水。超純水系統(tǒng)總體來說一般可分為三個部分:超純水制造區(qū)(CUB部分)、超純水拋光循環(huán)區(qū)(FAB部分)、超純水輸送管網(wǎng)(FAB各使用區(qū))。

　　其中超純水制造區(qū)復雜，其又可分為：預處理、一次純水處理、超純水處理三個部分。預處理部分主要包括：沙濾、活性碳塔(有的廠商在沙濾前還增設反應槽、氣浮池);一次純水處理部分主要包括：陰陽離子交換塔、脫氣塔(DG)、保安過濾器、紫外線殺菌器及多級反滲透;超純水處理部分主要包括：MDG(脫氧膜組)、TOC-UV殺菌器、混床(MB)及終端過濾器。

　　考慮到在向工藝設備輸送高純水過程中，輸水管道會對水質再次造成污染，因而在FAB內一般都設立拋光循環(huán)系統(tǒng)。拋光循環(huán)系統(tǒng)主要以MB為核心，再加上超濾設備(UF)，以除去在向工藝生產線輸送純水的過程中，管網(wǎng)溶入水中的雜質。

　　萊特萊德超純水設備結合膜分離技術，采用反滲透加離子交換系統(tǒng)(或EDI)相結合的工藝來制取超純水，該工藝與傳統(tǒng)工藝相比具有運行成本低的優(yōu)點(離子交換器的再生周期大大延長)，運行可靠。出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業(yè)用純水水質TypeE-1.2，高于我國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。