芯片的盡頭是超純水？

　　中國(guó)大陸越來(lái)越多的企業(yè)入局造芯，不論是手機(jī)、車企甚至家電廠商都開始了“造芯之路”。這時(shí)候不禁有人發(fā)問(wèn)：“科技的盡頭是造芯?”

　　芯片短缺和大幅漲價(jià)讓很多企業(yè)意識(shí)到，供應(yīng)環(huán)節(jié)不能過(guò)度依賴國(guó)外，而是應(yīng)該在國(guó)內(nèi)尋找合適的芯片供應(yīng)商，或者自主研發(fā)芯片，這對(duì)于自主芯片研發(fā)廠商是一次難得的機(jī)遇。

　　半導(dǎo)體市場(chǎng)自2019年開啟景氣周期有望持續(xù)三年，根據(jù)SEMI收集的各機(jī)構(gòu)對(duì)2022年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模及增速預(yù)測(cè)，2022年市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè)均值為5700億美元，平均的預(yù)測(cè)增速為10%，預(yù)測(cè)增速高達(dá)15%以上。

　　那么芯片的盡頭是什么?芯片是洗出來(lái)的。在芯片制作的過(guò)程中，光刻機(jī)是非常重要的一個(gè)設(shè)備，沒有光刻機(jī)將無(wú)法正常生產(chǎn)芯片，而光刻機(jī)在全球都是壟斷地位的。短期內(nèi)，這一狀況暫時(shí)無(wú)法改變。但是，沒有超純水芯片也是造不出來(lái)的。我們可控的盡頭就是超純水了。

　　清洗步驟貫穿芯片制造過(guò)程中的許多工藝環(huán)節(jié)。清潔技術(shù)將持續(xù)到芯片開發(fā)完成為止。早在20世紀(jì)50年代，半導(dǎo)體制造業(yè)就開始關(guān)注清洗技術(shù)，其重要性將越來(lái)越高，市場(chǎng)需求將越來(lái)越大。隨著工藝技術(shù)的進(jìn)步，光刻和各種工藝的數(shù)量激增，清洗步驟的數(shù)量也增加了。根據(jù)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)，80nm~60nm工藝清洗步驟約100個(gè)，20nm~10nm工藝清洗步驟200多個(gè)。由此可見，超純水對(duì)芯片來(lái)說(shuō)是多么重要。

　　全自動(dòng)雙級(jí)反滲透+EDI超純水系統(tǒng)+拋光混床是目前常用的超純水處理技術(shù)，EDI超純水系統(tǒng)是超純水生產(chǎn)設(shè)備的重要組成部分。到目前為止，一些廠家仍然使用混床生產(chǎn)超純水?；齑渤兯到y(tǒng)優(yōu)點(diǎn)是前期投資少。但是，EDI超純水系統(tǒng)的突出性能優(yōu)勢(shì)是無(wú)法替代的。與混床相比，在相同流量處理能力的情況下，EDI超純水系統(tǒng)占地面積要小得多，約為混床的1/10。這種對(duì)用戶友好的設(shè)計(jì)是通過(guò)消除巨大的再生存儲(chǔ)和廢水中和系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。