EDI超純水設備具有較高的性價比和設備可靠性。出水水質(zhì)除水分子外幾乎不含雜質(zhì)，電阻率可達18mΩ·cm，滿足芯片生產(chǎn)用水需求。...

超純水系統(tǒng)采用反滲透技術+EDI+拋光混床系統(tǒng)制備超純水。它是一種純物理過程的制備技術。其出水電阻可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質(zhì)穩(wěn)定、無污染物、成本低等...

EDI超純水設備用以生產(chǎn)制造純水，不用再造化工品，運作低成本。EDI系統(tǒng)自動化程度高，可以連續(xù)工作。出水量水體優(yōu)良平穩(wěn)，出水量電阻低≥15mΩ·cm。...

超純水，其標準是水電阻率為18.2MΩ-cm。超純水除了水，離子含量接近無，是一種強氧化劑，容易被空氣二次污染，即使儲存，電阻率也下降得很快。...

萊特萊德可以為用戶提供更好的超純水質(zhì)量，有效解決超純水清洗芯片的問題，更好地提高芯片的良品率。...

萊特萊德可為用戶提供更優(yōu)質(zhì)的超純水設備，有效解決鋰電池生產(chǎn)用水存在的問題，更好地提高鋰電池的品質(zhì)。...