超純水去硼是半導體行業(yè)的關(guān)鍵

　　制造半導體需要經(jīng)過8個主要步驟。超純水主要用于半導體制造過程中的某些步驟前后的清洗。比如，蝕刻后，切割晶片，然后用超純水清洗殘留物。另外，離子注入后，可以清除殘留離子。另外，也可以用來對晶片進行拋光和切割。?

　　超純水是在半導體生產(chǎn)過程中使用的一種清潔劑。所以，使用超純水對半導體生產(chǎn)有什么影響呢?采用納米超精細工藝加工半導體時，如果在不同工藝過程中留有一小粒粒子，將引起誤差。所以，在不同的工藝中，用超純水清洗晶片，能夠保證潔凈度，并提高半導體的生產(chǎn)率(輸出)。

　　伴隨著半導體工業(yè)的發(fā)展，對潔凈水的電導率、離子含量、TOC、do、微粒的要求也越來越高。在很多方面，超純水對半導體提出了很高的要求，所以在半導體工業(yè)中，超純水和其他行業(yè)是不一樣的。在超純水領(lǐng)域，半導體工業(yè)對水質(zhì)要求非常嚴格。當前，國內(nèi)普遍采用的超純水標準(GB/T11446.1-2013)和國家標準“電子級水”。

　　硼是半導體生產(chǎn)過程中的一種p型雜質(zhì)。過多將導致n型硅倒轉(zhuǎn)，從而影響電子和空穴的濃度。在超純水工業(yè)中，對硼的去除應(yīng)該給予足夠的重視。在硼離子美標中，e1.3要求小于0.05。當硼離子含量達到較低的指標時，半導體性能必然得到改善。

　　Huncotte系統(tǒng)選用核級樹脂，通過獨特的目標離子交換樹脂，能有效地控制出水中硼離子含量。用IPC-MS法測定硼離子含量，對硼離子流出物的分析≤0.005μG/L，遠遠低于美標E1.3中所要求的硼離子含量。