半導(dǎo)體工業(yè)重要的電子化學(xué)試劑 超純水

　　隨著半導(dǎo)體工業(yè)技術(shù)的快速發(fā)展，對(duì)超純水的要求和標(biāo)準(zhǔn)也在不斷提高，特別是對(duì)于線寬較小的集成電路，幾個(gè)金屬離子或灰塵顆粒就足以報(bào)廢整個(gè)電路。超純水作為半導(dǎo)體工業(yè)中重要的電子化學(xué)試劑之一，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體設(shè)備的制造，其生產(chǎn)制備越來越受到重視。

　　目前，在市場(chǎng)上常見的超純水工藝中，離子交換工藝已被反滲透工藝所取代。反滲透工藝無需樹脂再生，可實(shí)現(xiàn)24小時(shí)連續(xù)產(chǎn)水，且制水生產(chǎn)過程中無廢酸、廢堿排放。萊特萊德的超純水設(shè)備搭載Ryperm技術(shù)的反滲透設(shè)備，提高硅和硼的去除率，提高系統(tǒng)的出水水質(zhì)。

　　萊特萊德可以為用戶提供更好的優(yōu)品超純水，解決傳統(tǒng)超純水生產(chǎn)過程中能耗大、步驟多、成本高、產(chǎn)品純度低、產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定的問題，實(shí)現(xiàn)連續(xù)大規(guī)模生產(chǎn)，工藝簡(jiǎn)單，配置合理有效，處理效率高，具有經(jīng)濟(jì)環(huán)保優(yōu)勢(shì)，確保生產(chǎn)水質(zhì)達(dá)到國標(biāo)《電子級(jí)水》和美標(biāo)《電子和半導(dǎo)體超純水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)》。

　　工藝流程：

　　原水進(jìn)水→UF裝置→一級(jí)RO→二級(jí)RO→TOC裝置→EDI系統(tǒng)→氮封系統(tǒng)→TOC裝置→脫氣系統(tǒng)→靶向離子交換→終端過濾→用水點(diǎn)

　　萊特萊德采用獨(dú)特的靶向離子交換系統(tǒng)，定向去除超純水中難以處理的硼等離子體，確保出水硼離子穩(wěn)定≤5ppt。系統(tǒng)集成度高，雙操作系統(tǒng)，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。高純度超純水可連續(xù)穩(wěn)定生產(chǎn)，無需因樹脂再生而停機(jī)。設(shè)備日常維護(hù)簡(jiǎn)單方便，設(shè)備耐用，使用壽命長。