硅晶圓制作中應用的超純水設備如何？

　　熟悉半導體領(lǐng)域的人都知道硅晶圓，硅晶圓作為半導體電路的核心組件，是一種承載物，為了制成半導體積體電路的原材料。所以，半導體質(zhì)量的好壞與硅晶圓生產(chǎn)息息相關(guān)。

　　我們發(fā)現(xiàn)為了保證硅晶圓質(zhì)量，其清洗用水多為高質(zhì)量的超純水，因為只有超純水作為清洗用水才能保證硅晶圓的品質(zhì)，保證硅片無雜質(zhì)吸附，那么什么樣的超純水設備才能產(chǎn)出高質(zhì)量的超純水呢？

　　采用預處理+反滲透+EDI+拋光混床的工藝組合形式的超純水設備方可制備出高質(zhì)量的超純水。這類硅晶圓超純水設備具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運行的時間長等優(yōu)點。設備應用的EDI模塊水處理過程中不需要添加任何化學品，不僅減少了化學品運輸問題，同時降低了系統(tǒng)運行費用。本模塊不會有酸堿廢液產(chǎn)生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下，EDI水處理系統(tǒng)產(chǎn)出的濃水完全可以回收再利用。

　　硅晶圓超純水設備還具有無需樹脂再生，自動化性能強，無需人工操作等優(yōu)勢。設備能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，采用的設計結(jié)構(gòu)相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，在符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質(zhì)標準的同時可以使水資源的利用率達到80%左右，有效提升了水資源利用率。

　　隨著科技的不斷進步，半導體行業(yè)不斷的發(fā)展，我國對于該行業(yè)的政策支持，使得硅晶圓的市場需求也在不斷增加，超純水的需求也在悄然的增加。

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　　編輯：柒柒   技術(shù)：米